주요 업무
수행 직무
- ▶ 사진현상공정연구원과 공동으로 Photo Mask를 연구·개발하는데, 기준은 메모리반도체소자의 회로설계 사양이고 Photo Mask의 재료와 배선선폭은 다양하다.
- ▶ 단위공정연구원과 함께하는 소자제조공정(Process Integration) 연구·개발은 고객이 요구한 소자회로 성능목표가 기준이며, 이 공정은 식각·세정·사진현상·화학기상증착·연마·확산·계측검사·이온주입·금속막증착공정을 조합한 것이다.
- ▶ Isolation·Gate·Bit Line·Capacitor·Interconnect 등 DRAM 소자 회로배선의 연구·개발에는 소재와 구조를 다양하게 활용한다.
- ▶ 연구·개발 이후에는 메모리반도체소자 조립·검사공정을 통해 전기적·구조적 소자 특성이 유효한지 검증한다.