반도체 제조업 반도체광학재료개발연구원 반도체소자·공정·재료 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 소자제조 공정·장비응용을 위한 광학재료를 연구·개발하여 반도체소자의 미세화 및 고집적화를 지원한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체확산장비기술자 반도체 소자 품질수율 및 생산성 향상 활동을 지원하기 위해 확산장비를 설치, 평가, 개선, 인증, 유지 관리한다. 작업 강도 보통 숙련기간 2~4년 작업 강도: 보통 숙련기간: 2~4년
전자부품 제조업 전자기판기능검사원 영상기기, 음향기기, 사무기기 등 각종 전자제품에 장착되는 전자부품이 조립된 인쇄회로기판을 기능검사장비를 이용하여 검사·측정·시험한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 6개월 ~ 1년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 6개월 ~ 1년
반도체 제조업 반도체확산공정연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해·응용하여 소자공정연구원과 함께 차세대 소자배선구조 형성을 위한 확산공정을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 광반도체소자연구원 광통신용 모듈, 광검출기, 광증폭기, 광신호처리기, 광변조기, 광검출기, LED 조명기구, 태양광 모듈 등에 사용되는 각종 광반도체소자를 전기적, 구조적 관점에서 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체패키지제품설계기술자 반도체 조립기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 반도체소자를 외부환경으로부터 보호하고, 전력공급, 신호전달 등의 기능을 부여하기 위한 반도체 패키지제품을 설계한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 1~2년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 1~2년
반도체 제조업 반도체식각공정연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해·응용하여 소자공정연구원과 함께 차세대 소자배선구조 형성을 위한 식각공정을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체소자웨이퍼검사공정기술자 반도체소자웨이퍼의 품질수율 및 생산성 향상을 위해 검사기술자와 협의하여 소자웨이퍼의 전기적 특성을 평가·개선·인증·유지 관리한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체화학기상증착공정연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해·응용하여 소자공정연구원과 함께 차세대 소자배선구조 형성을 위한 화학기상증착공정을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체금속재료공정연구원 반도체소자·공정 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 소재, 부품, 장치, 장비기술 기반으로 금속재료 공정기술을 연구·개발하여 반도체 미세화 및 고집적화를 지원한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체가스재료공정연구원 반도체소자·공정 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 소재, 부품, 장치, 장비기술 기반으로 가스재료 공정기술을 연구·개발하여 반도체 미세화 및 고집적화를 지원한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체이온주입공정연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해·응용하여 소자공정연구원과 함께 차세대 소자배선구조 형성을 위한 이온주입공정을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체FAB시설운영기술자 반도체 소자 품질수율 및 생산성 향상 활동을 지원하기 위해 FAB 온도, 습도, 청정도 등의 클린룸 환경, 물류자동화, 운영프로그램 등 관련 시설을 설치, 평가, 개선, 인증, 유지 관리한다. 작업 강도 보통 숙련기간 2~4년 작업 강도: 보통 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체확산장비공정연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 기구 및 소프트웨어설계연구원과 함께 확산장비를 기획, 기초 및 생산 성능평가를 수행하여 최적의 공정·장비기술을 개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체연삭장비기술자 반도체 소자 품질수율 및 생산성 향상 활동을 지원하기 위해 웨이퍼 연삭장비를 설치, 평가, 개선, 인증, 유지 관리한다. 작업 강도 보통 숙련기간 2~4년 작업 강도: 보통 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체가스재료개발연구원 반도체소자·공정·재료 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 소자제조공정을 위한 가스재료를 연구·개발하여 반도체소자의 미세화 및 고집적화를 지원한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체확산장비부분품연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 확산장비에 필요한 부분품을 설계, 기초 및 양산평가를 수행하여 최적의 부분품을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체식각장비기술자 반도체 소자 품질수율 및 생산성 향상 활동을 지원하기 위해 식각장비를 설치, 평가, 개선, 인증, 유지 관리한다. 작업 강도 보통 숙련기간 2~4년 작업 강도: 보통 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체사진현상장비부분품연구원 반도체 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 사진현상장비에 필요한 부분품을 설계, 기초 및 양산평가를 수행하여 최적의 부분품을 연구·개발한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년
반도체 제조업 반도체금속재료개발연구원 반도체소자·공정·재료 기술로드맵 및 고객 요구성능을 이해하고, 소자제조공정을 위한 금속재료를 연구·개발하여 반도체소자의 미세화 및 고집적화를 지원한다. 작업 강도 가벼움 숙련기간 2~4년 작업 강도: 가벼움 숙련기간: 2~4년